本数据聚焦于分析颗粒污染物尺寸对光学刻度盘刻线均匀性的影响，揭示了环境洁净度与刻线加工质量之间的量化关系，为公司（作为生产商）及外部相关方提供了重要的决策依据，具有显著的应用价值。具体体现在以下方面： 1.优化产品开发和生产工艺：公司可通过分析颗粒污染物尺寸对刻线均匀性的影响，可以精准控制生产环境洁净度，优化清洗工艺，科学制定污染物控制标准和质量参数，提升产品刻线质量和良品率。 2.推动行业科技进步：本数据可以给精密仪器制造领域的相关科研工作者、技术研发人员、质量管理人员、产品检验人员等使用，为他们开展洁净工艺研究、刻线质量控制、污染防控、科学研究等工作提供支撑。
1.数据采集： 实时记录不同颗粒污染物尺寸条件下的光学刻度盘刻线均匀性测试数据，包括测试样品编号、测试时间、颗粒污染物尺寸/μm、刻线均匀性/%等字段。 2.数据预处理： （1）对采集的数据进行去噪处理，确保数据准确性。 （2）将历史采集的数据（包含本次采集）进行聚合，形成数据集X，并针对数据集X中的刻线均匀性字段，计算出其平均值。 3.计算线性回归斜率a和截距b： （1）基于数据集X（以颗粒污染物尺寸为自变量、刻线均匀性为因变量），运用SLOPE函数，基于最小二乘法原理确定斜率a，运用INTERCEPT函数确定截距b。 （2）斜率a表示单位颗粒污染物尺寸变化对刻线均匀性的影响程度，截距b表示基准洁净环境下光学刻度盘的刻线均匀性值。 4.结果运用： （1）计算比例系数k：k=|a/刻线均匀性平均值|×100%。 （2）若k≥10%，则判定为"高影响"，若5%≤k＜10%，则判定为"中影响"，若k＜5%，则判定为"低影响"。
| 字段名 | 类型 | 描述 |
|---|---|---|
测试样品编号 |
-- | -- |
测试时间 |
-- | -- |
颗粒污染物尺寸/μm |
-- | -- |
刻线均匀性/% |
-- | -- |
聚合后形成的数据集 |
-- | -- |
| fieldName | exampleValue |
|---|---|
| 测试样品编号 | OC***8427 |
| 测试时间 | 2024.12.30 |
| 颗粒污染物尺寸/μm | 0.85 |
curl -H "Authorization: Bearer YOUR_API_KEY" \
http://localhost:3001/api/v1/datasets/175795